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功能性鋁陽(yáng)極氧化膜的應(yīng)用

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鋁陽(yáng)極氧化膜的多孔性結(jié)構(gòu)賦于了其各種獨(dú)特的功能 , 具有遠(yuǎn)大的應(yīng)用前景,

鋁陽(yáng)極氧化膜的多孔性結(jié)構(gòu)賦于了其各種獨(dú)特的功能 , 具有遠(yuǎn)大的應(yīng)用前景, 由于涉及面太廣, 本文擇要示例說(shuō)明 :

1 鋁陽(yáng)極氧化膜在垂直磁記錄盤(pán)上的應(yīng)用

  垂直磁記錄盤(pán)比水平磁記錄盤(pán)的磁記錄密度高。國(guó)外已研究多年 , 日本在這方面的研究比較成功 。日本輕金屬株式會(huì)社認(rèn)為高純Al -4 Mg 合金在鉻酸中的陽(yáng)極氧化膜具有最佳的綜合性能。表面平整性好 , 硬度適當(dāng), 能承受300 ~ 400 ℃高溫而不開(kāi)裂 。用濺射法或電鍍法將磁性介質(zhì)沉積在膜中 。這種高密度磁盤(pán)已在日本使用多年。日本佐藤敏彥教授認(rèn)為 :垂直記錄磁盤(pán)開(kāi)發(fā)為商用磁盤(pán)尚需時(shí)日。

  2 鋁陽(yáng)極氧化膜在超微過(guò)濾介質(zhì)方面的應(yīng)用

  鋁的多孔型膜作為超微過(guò)濾介質(zhì)的研究在國(guó)外已獲重大進(jìn)展 。眾所周知, 氧化膜的孔徑和結(jié)構(gòu)可以通過(guò)陽(yáng)極氧化的工藝參數(shù)來(lái)控制, 孔徑在10 nm 和250 nm 之間, 孔的密度可達(dá)108 ~ 1011 / cm2 。而膜厚可以超過(guò)10 μm , 因此在超微過(guò)濾方面成為多孔型無(wú)機(jī)物膜的理想材料 。其關(guān)鍵是如何將多孔膜與金屬基體分離開(kāi)來(lái)。分離過(guò)程可在相同電解液中進(jìn)行, 并采用控制電壓下降法實(shí)現(xiàn)。

  3 其它功能性鋁陽(yáng)極氧化膜的應(yīng)用

  近年來(lái)鋁陽(yáng)極氧化功能膜較為矚目的有①光電功能;②催化功能 ;③傳感功能和 ④分離功能, 光電功能有場(chǎng)致發(fā)光、光致發(fā)光和場(chǎng)致變色等。鋁合金成分、氧化工藝和發(fā)光層處理 。加強(qiáng)各道工序漂洗, 經(jīng)常更換浸泡用熱水, 可以大大減少因后處理不當(dāng)而產(chǎn)生的起泡現(xiàn)象。此外, 還需嚴(yán)格控制老化溫度 , 否則溫度過(guò)高, 鍍層與基體因熱脹冷縮差異太大而起泡 。

鋁陽(yáng)極氧化膜

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